最先端ArF液侵用光源技術を導入し、ユーザーのさらなるニーズに応える
栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型リソグラフィ用光源、ArFドライGＴ45Aを8月に出荷したことを発表しました。
最先端半導体製造プロセスでは、テクノロジー・ノード10/7nm（ナノ･メートル）という微細なプロセスが主流となり、今後もEUV光源の導入による7nm以下の更なる微細化が注目されています。その一方で、IoTの普及に伴い主に14-65nmといった技術的に成熟されたノードにおいて需要が高まり、新規投資による生産能力の拡大と、既存工場のアップグレードで対応する事が期待されています。従って、ドライ露光装置の更なる改善が要求され、露光装置における高生産性と高い稼働率（Availability）が不可欠となっています。
GT45Aは、すでに生産現場で導入実績のある、以下のArF液侵用光源技術を適用させることで、ユーザーの幅広い期待に応える機能拡張性を備えます。
- 主要モジュールの寿命を従来品比で最大50%向上させ、光源の更なる高稼働を実現し、装置稼働率を向上させます。
- 最大で90Wまで高出力化することで、更なる生産性向上が可能です。
- 4kHz～6kHzの繰り返し周波数が対応可能となり、露光機の要求に幅広く対応し、露光光学性能の向上に貢献します。
ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「GT45AはArF液侵用光源の開発で培い実現してきた技術を適用することにより、お客様の幅広いニーズに対し最先端技術による最適なソリューションを提供することが可能となります。ギガフォトンは今後も継続して、お客様のニーズに応える最適な機能を提供し、半導体製造業界へさらなる貢献をしていきます。」
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細については www.gigaphoton.comをご覧ください。
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